主要技术指标：
1) 微立体光刻技术的光学分辨率≤3μm；
2) 加工样品尺寸≥37.5mm*20mm*10mm
3) 最小加工层厚：≤5μm
4) 二维加工最小特征尺寸≤3μm
5) 三维加工最小特征尺寸≤10μm
6) 标准材料拼接误差≤5μm
7） 最小圆锥尖端≤6μm，最小孔径≤10μm，最小弹簧结构线径≤30μm
主要功能：
高精度复杂三维微纳结构在微纳机电系统、精密光学、生物医疗、组织工程、新材料、新能源、高清显示、微流控器件、微纳光学器件、微纳传感器、微纳电子、生物芯片、光电子和印刷电子等领域有着巨大的产业需求。微立体超高精度加工是目前全球最前沿的先进制造领域之一，可以有效实现上述创新研究领域所需求的复杂三维结构的快速制备。
应用范围：
微纳机电系统、精密光学、生物医疗、组织工程、新材料、新能源、高清显示、微流控器件、微纳光学器件、微纳传感器、微纳电子、生物芯片、光电子和印刷电子等领域