化学气相沉积镀膜机

该设备是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是在4寸硅衬底上沉积Si3N4及Poly硅薄膜）。

该设备的主要用途是进行科学实验和成膜工艺研究。

该设备为水平管卧式结构，由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成。