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化学气相沉积镀膜机

出处:浙江大学机械电子控制工程研究所   发布时间:2015-04-30 16:53:37    您是第0位浏览者

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  • 该设备是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是在4寸硅衬底上沉积Si3N4及Poly硅薄膜)。

  • 该设备的主要用途是进行科学实验和成膜工艺研究。

  • 该设备为水平管卧式结构,由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成。


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